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【SEMBAサロン86th レポート】「海外進出とデザイン対策」(上田幸和氏)

今回のSEMBAサロンは、有限会社インターデザイン研究所の上田幸和さんに、「海外進出とデザイン対策」というテーマのもとお話しいただきました。
 
上田さんは、日本をはじめ海外でも工業デザインのお仕事でご活躍されています。今回は、これまでの実務経験を踏まえ、海外進出する際にデザインに関して注意するべきポイントをお話しいただきました。
 
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海外進出の第一歩として展示会への出展がありますが、ロゴマーク盗用や、著作権を侵害される恐れがあることなど、具体的な実例を挙げながら分かりやすく解説いただきました。
 
中国では、知名度やブランドの名前の力が大きいため、ブランド名を覚えてもらうことが第一になり、いかに自社ブランドを定着させるかについてお話しいただき、それと当時に発生してくるコピー対策についても解説いただきました。また、ミャンマー、ベトナム、イスラム圏、ヨーロッパなど、それぞれの国における特徴も解説。国によって知的財産に関する法律も異なり複雑となるため、進出する際はもちろん、撤退時にも専門家に相談するなど注意が必要とのことでした。
 
市場調査から登記など海外進出へのステップ、展示会出展時の注意点に加えて、それに伴う商標登録や特許についての調べ方まで、海外進出のノウハウをお話しいただき、皆さまとても興味深く聴き入っておられました。
終了後の懇親会では、和やかな雰囲気のもと個別質問や参加者同士の交流などで盛り上がりました。
 
 
有限会社インターデザイン研究所 http://www.inter-d.co.jp/
 
 
【日 時】3月16日(金)19:00~21:00 後半は懇親会
【プレゼンター】上田幸和氏 (有限会社インターデザイン研究所、
      公益社団法人日本インダストリアルデザイナー協会 理事、特許庁 意匠派遣専門家 INPIT所属)
【参加人数】11名

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